Производство высокочистого пиролитического нитрида бора (CVD)
р.
р.
Описание

    На текущий момент разработана технология производства высокочистого гексагонального нитрида бора (h-BN) с применением отечественных сырьевых материалов (трихлорид бора, аммиак). Начиная с 2019 года, организовано мелкосерийное производство плоскопараллельных дисков для нужд электронной промышленности, в частности для окон вывода энергии электровакуумных СВЧ-генераторов. Высокие диэлектрические свойства и радиопрозрачность дают возможность использовать изделия из ПНБ в электротехнике, электронной, полупроводниковой и смежных с ними областях техники. На финальной стадии сборки оборудование для осаждения ПНБ с рабочими габаритами камеры Ø400 мм, высотой 600 мм.


Преимущества

  • возможность изготовления изделия с габаритными характеристиками, необходимыми заказчику;
  • меньшая стоимость по сравнению с зарубежными компаниями;
  • полностью отечественное производство.

Спецификация

  • диаметр реактора 110 мм, высота реактора 500 мм;
  • максимальная температура установки 2100 °С.